Naar inhoud springen

Plasma Chemistry And Plasma Processing

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Plasma Chemistry And Plasma Processing
Genre wetenschappelijk tijdschrift
Frequentie 6 keer per jaar
Eerste editie 1981
Taal Engels
Uitgeverij(en) Springer Science+Business Media
ISSN 0272-4324
Impactfactor 2,658 (2018)
Officiële website
Portaal  Portaalicoon   Media

Plasma Chemistry And Plasma Processing is een internationaal, aan collegiale toetsing onderworpen wetenschappelijk tijdschrift op het gebied van de scheikunde en natuurkunde van plasma's. Het wordt uitgegeven door Springer Science+Business Media en verschijnt 6 keer per jaar.[1] Het eerste nummer verscheen in 1981.